ФАМ-маска №2 «Активный лифтинг»

820 грн.

Видимое повышение тургора и эластичности, улучшение контура лица. Интенсивная подтяжка кожи

Добавить в список желаний
Добавить в список желаний

Описание

Средство для разглаживания и выравнивания кожи, её насыщения витаминами и микроэлементами. Интенсивный уход для подтяжки кожи лица и шеи.

Действие:

  • Оказывает видимое подтягивающее действие на  лицо и шею.
  • Разглаживает мелкие морщины, укрепляет и уплотняет дерму, увлажняет.
  • Улучшает структуру поверхности кожи, придаёт ей  гладкость и сияние.
  • Тонизирует и увлажняет кожу, уменьшает признаки усталости.

Главные активы: шиповник, манжетка, плоды рябины, лист смородины, ананас. Их  основным действием  является задача подтяжки кожи лица и шеи.

Базовый состав:

  • Модифицированный природный цеолит, обогащённый ионами меди, серебра, цинка, калия и магния; 
  • овёс молочной спелости, бентонит, отруби пшеничные, отруби овсяные, толокно, каолин, ячменная мука, морская соль, цветки шиповника, манжетка, тальк, ананас, плоды рябины, лист смородины;
  • сапропель, коллоидная овсяная мука, альгинат натрия, корень имбиря, лаванда, плоды моркови, крапива, шишки хмеля, корень одуванчика, эвкалипт, тысячелистник, лист берёзы, подорожник, корень девясила, полынь горькая, ксантановая камедь, эфирное масло грейпфрута.

Способ применения:

  • 1 ч. ложку с верхом порошка высыпать в небольшую ёмкость;
  • разбавить горячей водой до консистенции сметаны;
  • нанести на очищенную литокомплексом увлажнённую кожу, выдержать 20 минут;
  • смыть водой приятной температуры;
  • при необходимости нанести крем.

При индивидуальной непереносимости какого-либо компонента средство применять нельзя. Перед применением сделайте пробу на коже в районе локтевого сгиба.

Маски выпускаются в виде порошка весом 50 грамм. Храните его при комнатной температуре в закрытой банке и не допускайте попадания влаги внутрь. Срок годности средства – 2 года.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “ФАМ-маска №2 «Активный лифтинг»”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *